用于半导体晶粒双面缺陷同时检测的照明补偿装置
授权
摘要
本实用新型涉及一种用于半导体晶粒双面缺陷同时检测的照明补偿装置，包括光学检测装置，光学检测装置的光路上设置有直角转像棱镜，直角转像棱镜在半导体晶粒底面侧的直角边侧下方依次设置有直角照明补偿棱镜、补偿照明光源。结构简单，从补偿照明光源上发出的光束经直角照明补偿棱镜入射到直角转像棱镜直角边上，该光束折射后入射在直角转像棱镜的斜面上不满足全反射条件，而是从该斜面上出射并透过透明玻璃载物台照明半导体晶粒的底面，实现对半导体晶粒底面的照明补偿。
基本信息
专利标题 ：
用于半导体晶粒双面缺陷同时检测的照明补偿装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922292174.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-19
授权号 ：
CN211426309U
授权日 ：
2020-09-04
发明人 ：
廖廷俤颜少彬陈武陈文志
申请人 ：
泉州师范学院
申请人地址 ：
福建省泉州市丰泽区东海大街398号
代理机构 ：
福州元创专利商标代理有限公司
代理人 ：
陆帅
优先权 ：
CN201922292174.0
主分类号 ：
G01N21/88
IPC分类号 ：
G01N21/88 G01N21/95 G02B17/08
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/84
专用于特殊应用的系统
G01N21/88
测试瑕疵、缺陷或污点的存在
法律状态
2020-09-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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