旋转合像棱镜法获得晶粒双面准等光程成像检测装置
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摘要

本实用新型提出一种旋转合像棱镜法获得晶粒双面准等光程成像检测装置,其特征在于:在半导体晶粒与立方分束合像器之间的光路上分别设有天面直角转像棱镜和侧面直角转像棱镜,侧面直角转像棱镜和天面直角转像棱镜分别位于半导体晶粒的正侧部和天面正上方,立方分束合像器与天面直角转像棱镜在同一水平高度;侧面直角转像棱镜与立方分束合像器位于同一竖向上,立方分束合像器相对旋转,本实用新型旋转立方分束合像器法获得晶粒双面“准”等光程成像检测装置,通过旋转一定角度的立方分束合像器达到使双面“准”等光程成像。本实用新型减少了光学元件使用的数量,简化了检测装置的光学装配,降低了检测装置的成本。

基本信息
专利标题 :
旋转合像棱镜法获得晶粒双面准等光程成像检测装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202121117877.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-05-24
授权号 :
CN216484644U
授权日 :
2022-05-10
发明人 :
陈武颜少彬段亚凡廖廷俤
申请人 :
泉州师范学院
申请人地址 :
福建省泉州市丰泽区东海大街398号
代理机构 :
福州元创专利商标代理有限公司
代理人 :
林捷
优先权 :
CN202121117877.0
主分类号 :
G01N21/84
IPC分类号 :
G01N21/84  G01N21/01  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/84
专用于特殊应用的系统
法律状态
2022-05-10 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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