一种新型磁钢可调节平面阴极
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摘要
本实用新型公开了一种新型磁钢可调节平面阴极，它涉及真空磁控溅射设备技术领域。它包括磁钢座、调节杆、靶壳、压板、磁铁、锁紧螺母、吊挂座、靶板，磁钢座通过调节杆吊挂在靶壳上，调节杆与靶壳的连接处通过压板压紧设置，压紧处通过锁紧螺母锁紧固定，所述的磁钢座上安装有磁铁，磁铁采用上下内外环形永磁体排布，外环比内环高出8mm，所述磁钢座通过槽分成多段，中间每段设置有六个吊杆孔，两端设置有四个吊杆孔，调节杆穿过吊杆孔设置，通过转动各调节杆，改变磁铁位置。本实用新型可调节靶面范围磁场强度，提高其均匀度，使靶面附近的磁场呈较为平滑地分布，使靶材较均匀地刻蚀，提高了靶材的利用率，应用前景广阔。
基本信息
专利标题 ：
一种新型磁钢可调节平面阴极
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922413794.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-25
授权号 ：
CN211420297U
授权日 ：
2020-09-04
发明人 ：
张俊峰赵子东许春立魏庆瑄
申请人 ：
上海子创镀膜技术有限公司
申请人地址 ：
上海市金山区金山工业区金飞路808号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201922413794.5
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2020-09-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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