激光直写设备中多路光路校准系统及方法
授权
摘要
本发明公开了激光直写设备中多路光路校准系统及方法，属于曝光技术领域。所述方法通过成像转换组件对各光路所投的图像进行转换，像经过成像转换组件透镜组后变成平行光通过校准光路的各光学元件(全反镜+透反镜)，最终经CCD物镜将平行入射的光线成像到CCD靶面相机上。通过成像转换组件将光路用于校准的图形成像到无穷远，从而解决了CCD靶面相机与各光路距离不一样的问题，因为不需要移动载物平台，所以避免了现有多光路校准的方法存在的耗时长且校准精度依赖于可移动平台的精度的问题。
基本信息
专利标题 ：
激光直写设备中多路光路校准系统及方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111781800A
申请号 ：
CN202010573071.6
公开（公告）日 ：
2020-10-16
申请日 ：
2020-06-22
授权号 ：
CN111781800B
授权日 ：
2022-06-03
发明人 ：
肖燕青茆晓华陈海巍
申请人 ：
江苏影速集成电路装备股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省徐州市邳州市恒山路西侧
代理机构 ：
哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司
代理人 ：
彭素琴
优先权 ：
CN202010573071.6
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 H04N5/225 H04N5/235
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-03 ：
授权
2020-11-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20200622
申请日 : 20200622
2020-10-16 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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