半导体热处理设备的炉体及半导体热处理设备
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摘要

本发明公开一种半导体热处理设备的炉体以及半导体热处理设备,该炉体包括:炉体本体;保温桶,设置在炉体本体中,保温桶的外壁上设有多个竖向延伸的凹槽,凹槽中设有多个贯穿保温桶侧壁的通气孔;多个阻风球组件,每个阻风球组件设置于一个凹槽内,阻风球组件包括连接板和设置在连接板上的多个阻风球,阻风球中设有贯通的第一通孔和与第一通孔连通的第二通孔,每个阻风球的第二通孔与一个通气孔对应连通。通过在炉体本体的内壁和保温桶之间设置阻风球组件,增加了炉体内部的风阻,从而避免保温桶的空气磨损而掉渣,提高保温效果;阻风球组件还可以阻挡保温桶从通气孔泄露的炉体内部的热辐射,防止炉体本体的内壁温度过高。

基本信息
专利标题 :
半导体热处理设备的炉体及半导体热处理设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112197590A
申请号 :
CN202011003018.9
公开(公告)日 :
2021-01-08
申请日 :
2020-09-22
授权号 :
CN112197590B
授权日 :
2022-04-22
发明人 :
赵宏图
申请人 :
北京北方华创微电子装备有限公司
申请人地址 :
北京市大兴区北京经济技术开发区文昌大道8号
代理机构 :
北京思创毕升专利事务所
代理人 :
孙向民
优先权 :
CN202011003018.9
主分类号 :
F27B17/00
IPC分类号 :
F27B17/00  F27D1/12  F27D17/00  H01L21/67  
相关图片
IPC结构图谱
F
F部——机械工程;照明;加热;武器;爆破
F27
炉;窑;烘烤炉;蒸馏炉
F27B
一般馏炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉;开式烧结设备或类似设备
F27B
一般馏炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉;开式烧结设备或类似设备
F27B17/00
不包含在F27B 1/00至F27B 15/00中任一组的炉
法律状态
2022-04-22 :
授权
2021-01-26 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : F27B 17/00
申请日 : 20200922
2021-01-08 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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