一种沉积设备，包括一槽沉炉、一等离子喷灯、一进料件、一沉积机构及一恒压装置，槽沉炉包括一炉壳及由炉壳包围形成的一封闭的炉膛。等离子喷灯设置于炉壳上，等离子喷灯用于向炉膛内喷射等离子体焰。进料件设置于槽沉炉上，用于朝向等离子体焰喷射含硅原料，以使含硅原料与等离子体焰发生反应生成玻璃态二氧化硅。沉积机构设置于炉膛内，沉积机构包括一沉积托盘及一旋转升降件，旋转升降件传动连接于沉积托盘以带动沉积托盘升降及旋转，沉积托盘设置于等离子体焰的下方以承接玻璃态二氧化硅。恒压装置设置于炉壳上，恒压装置用于控制炉膛内的压力保持恒定。另，本发明还提供一种高纯石英玻璃的制备方法。