循环镀膜方法、膜层以及产品
实质审查的生效
摘要
本发明提供了一循环镀膜方法、膜层以及产品,其中所述循环镀膜方法包括向一反应腔室通入反应原料和在循环镀膜条件下对于所述反应腔室内的一基材表面进行等离子体增强化学气相沉积以形成膜层,其中循环镀膜是指开启等离子体放电持续一段时间,然后关闭等离子体放电一段时间,循环开启和关闭的过程。
基本信息
专利标题 :
循环镀膜方法、膜层以及产品
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114438477A
申请号 :
CN202011205084.4
公开(公告)日 :
2022-05-06
申请日 :
2020-11-02
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
宗坚康必显
申请人 :
江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司
申请人地址 :
江苏省无锡市惠山经济开发区玉祁配套区东环路182号
代理机构 :
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 :
骆苏华
优先权 :
CN202011205084.4
主分类号 :
C23C16/50
IPC分类号 :
C23C16/50 C23C16/455
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/50
借助放电的
法律状态
2022-05-24 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 16/50
申请日 : 20201102
申请日 : 20201102
2022-05-06 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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