一种半导体激光匀光技术及模组
实质审查的生效
摘要

本发明公开了一种半导体激光器/巴条模组整形匀光技术及制作方法,在现有光学透镜的表面制作微纳米尺寸的小凹槽,所述小凹槽的深度和方向随机分布,小凹槽对激光衍射的方向是随机分布;采用微纳米结构的研磨粉和腐蚀溶液按一定比例混合成均匀浆料,将浆料滴在所述基板的上表面的中心位置上,形成半圆椭球形的浆料滴,制成匀化椭球镜;匀化椭球镜固定安装在半导体激光器发光点之前,激光器输出口所有辐射激光光束经过匀化椭球镜后,成为小束散角均匀光束,辐照在激光辐射面上局部点,该点激光辐射能量是激光器输出口所有辐射激光能量分布的叠加,实现激光匀化;本发明系统集成度高,制作方法简单,成本少。

基本信息
专利标题 :
一种半导体激光匀光技术及模组
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114460755A
申请号 :
CN202011305269.2
公开(公告)日 :
2022-05-10
申请日 :
2020-11-09
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
南瑶孙翔李喜荣杨欢杜美本李会利李青民李波
申请人 :
西安立芯光电科技有限公司
申请人地址 :
陕西省西安市高新区丈八六路56号2号楼1层
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202011305269.2
主分类号 :
G02B27/09
IPC分类号 :
G02B27/09  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B27/00
不能分入G02B 1/00-G02B 26/00,G02B 30/00的其它光学系统或其它光学仪器
G02B27/09
其他位置不包括的光束整形,例如改变横截面积
法律状态
2022-05-27 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 27/09
申请日 : 20201109
2022-05-10 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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