一种无标准片对零的双光谱共焦测量厚度方法
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摘要
一种无标准片对零的双光谱共焦测量厚度方法,包括以下步骤,步骤1:第一传感器、第二传感器分别测量参考面;步骤2:第一传感器、第二传感器分别互测参考面;步骤3:第一传感器、第二传感器分别对待测样品表面进行测量;步骤4:计算待测样品厚度。本发明利用传感器的参考面或绝对零点,实现传感器间距的直接标定,简化了对零过程,避免引入第三方测厚仪器的不确定度;利用光纤分路器可以实现多个传感器光源、光谱仪的共用,在保证测量精度的同时,减小了光学部件的数量;透明参考面保证两个传感器可以同时在同一表面形成可视光斑,便于辅助调节两个传感器的相对位姿,实现同轴或者共线调整。
基本信息
专利标题 :
一种无标准片对零的双光谱共焦测量厚度方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112229338A
申请号 :
CN202011357762.9
公开(公告)日 :
2021-01-15
申请日 :
2020-11-27
授权号 :
CN112229338B
授权日 :
2022-05-17
发明人 :
李加福朱小平杜华王凯赵沫赵彦龙
申请人 :
中国计量科学研究院
申请人地址 :
北京市朝阳区北三环东路18号
代理机构 :
北京市恒有知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
尹文会
优先权 :
CN202011357762.9
主分类号 :
G01B11/06
IPC分类号 :
G01B11/06
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量;角度的计量;面积的计量;不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/02
用于计量长度、宽度或厚度
G01B11/06
用于计量厚度
法律状态
2022-05-17 :
授权
2021-02-02 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01B 11/06
申请日 : 20201127
申请日 : 20201127
2021-01-15 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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