一种具有均匀加热功能的光学镀膜腔体
授权
摘要

本实用新型属于光学镀膜设备技术领域,尤其为一种具有均匀加热功能的光学镀膜腔体,包括设备箱体,所述设备箱体的上端固定安装有电动机,所述电动机的输出端固定连接有行星双旋转基板保持架,所述行星双旋转基板保持架的内部固定安装有光学监视器玻璃,所述设备箱体的内壁固定连接有隔板,所述设备箱体的底壁依次从左向右固定安装有离子枪、探测器、电子束蒸镀器和光源灯,所述设备箱体的内壁开设有滑道。本实用新型通过设置电动机和行星双旋转基板保持架,使得设备的蒸镀蒸汽在基材上散布更均匀,再通过设置探测器和石英速率监测仪,使得设备可以进行实时监控,避免产生产品的不合格,还有就是实现了设备的全自动化。

基本信息
专利标题 :
一种具有均匀加热功能的光学镀膜腔体
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020111769.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-01-17
授权号 :
CN211227308U
授权日 :
2020-08-11
发明人 :
杨玉飞
申请人 :
江阴慕达斯真空设备有限公司
申请人地址 :
江苏省无锡市江阴市城东街道山观澄山路697号
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202020111769.1
主分类号 :
C23C14/24
IPC分类号 :
C23C14/24  C23C14/50  C23C14/52  F16F15/04  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-08-11 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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