涂胶曝光显影测量一体化装置
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
摘要

本实用新型提供一种涂胶曝光显影测量一体化装置,所述涂胶曝光显影测量一体化装置包括:主腔体,包括涂胶室、曝光室、显影室、测量室;所述涂胶室用于执行涂胶工序,所述曝光室用于执行曝光工序,所述显影室用于执行显影工序,所述测量室用于测量关键尺寸;晶圆卸载台,用于放置加工完成的晶圆,位于所述主腔体的出口处;机械手臂,用于晶圆的夹取与传送;控制单元,控制所述涂胶曝光显影测量一体化装置的运行。本实施例提供的涂胶曝光显影测量一体化装置及,使曝光机能够和涂胶机、显影机两种有污染气体的设备,有效的结合在一起,提供高效的产出,节约净化厂房空间布局,人力投入,使生产成本大幅降低。

基本信息
专利标题 :
涂胶曝光显影测量一体化装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020142918.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-01-22
授权号 :
CN211375315U
授权日 :
2020-08-28
发明人 :
王维斌李龙祥林正忠陈明志严成勉
申请人 :
中芯长电半导体(江阴)有限公司
申请人地址 :
江苏省无锡市江阴市长山大道78号
代理机构 :
上海光华专利事务所(普通合伙)
代理人 :
余明伟
优先权 :
CN202020142918.0
主分类号 :
G03F7/16
IPC分类号 :
G03F7/16  G03F7/20  G03F7/26  G03F7/30  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2021-06-25 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
IPC(主分类) : G03F 7/16
变更事项 : 专利权人
变更前 : 中芯长电半导体(江阴)有限公司
变更后 : 盛合晶微半导体(江阴)有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 214437 江苏省无锡市江阴市长山大道78号
变更后 : 214437 江苏省无锡市江阴市长山大道78号(经营场所江阴市东盛西路9号)
2020-08-28 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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