一种阵列用涂胶显影装置
授权
摘要

本实用新型提供一种阵列用涂胶显影装置,属于显影装置技术领域,包括机床,机床的内部固定安装有电机,电机的正面转动连接有转轴一,转轴一的外壁固定连接有齿轮一,齿轮一的外壁活动连接有皮带一,皮带一的下表面活动连接有齿轮二,齿轮二的背面固定连接有齿轮三,齿轮三的背面固定连接有滚轮一,齿轮三的外壁活动连接有皮带二,机床的上表面固定连接有壳体,壳体的左侧面固定连接有固定架,通过腔体外壁的毛刷,胶通过输料管道外壁的孔洞进入腔体,沿着腔体外壁的孔洞渗透进入毛刷,便于毛刷对材料涂抹均匀。

基本信息
专利标题 :
一种阵列用涂胶显影装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022011676.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-09-15
授权号 :
CN213210717U
授权日 :
2021-05-14
发明人 :
张军区杜国强董金良
申请人 :
无锡环亚微电子有限公司
申请人地址 :
江苏省无锡市锡山经济技术开发区云林蓉通路17
代理机构 :
南京北辰联和知识产权代理有限公司
代理人 :
王俊
优先权 :
CN202022011676.4
主分类号 :
G03F7/16
IPC分类号 :
G03F7/16  G03F7/30  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2021-05-14 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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