一种用于镀膜设备的升降结构
授权
摘要
本实用新型提供一种用于镀膜设备的升降结构，包括炉门，所述炉门能够用于密封镀膜设备的炉口，所述升降结构包括载板升降组件和载板升降模组，所述载板升降组件安装在炉门上，并能够随炉门升降，所述载板升降模组连接载板升降组件并通过载板升降组件驱动炉门的升降，所述炉门能够装载用于承载硅片的硅片载具，载板升降组件连接硅片载具，并能够驱动硅片载具的升降。本实用新型采用二级升降驱动，其中一级升降驱动主要进行大范围的整体升降，另外一级升降机构主要用于在镀膜过程中对硅片载具的进行微调，改变镀膜位置，实现双面镀膜。
基本信息
专利标题 ：
一种用于镀膜设备的升降结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020158248.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-02-10
授权号 ：
CN212299942U
授权日 ：
2021-01-05
发明人 ：
张武庞爱锁林佳继刘群林依婷
申请人 ：
拉普拉斯（无锡）半导体科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市锡山区锡北镇锡港路张泾东段209号
代理机构 ：
杭州天昊专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
董世博
优先权 ：
CN202020158248.1
主分类号 ：
F27D1/18
IPC分类号 ：
F27D1/18 C23C16/458
IPC结构图谱
F
F部——机械工程；照明；加热；武器；爆破
F27
炉；窑；烘烤炉；蒸馏炉
F27D
一种以上的炉通用的炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉的零部件或附件
F27D
一种以上的炉通用的炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉的零部件或附件
F27D1/00
外壳；衬炉；壁；炉顶
F27D1/18
门框；门、盖、活动盖板
法律状态
2021-01-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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