用于对覆晶薄膜进行本压处理的压头及邦定机
授权
摘要
本实用新型涉及一种用于对覆晶薄膜进行本压处理的压头及邦定机，所述压头包括位于压头顶部的压合接触面，所述压合接触面包括第一区域和第二区域，所述第一区域的高度高于所述第二区域。本实用新型压头的压合接触面的第二区域高度低于第一区域，使用该压头在邦定工艺中对覆晶薄膜本压时将第一区域对准覆晶薄膜的外引线键合区、第二区域对准覆晶薄膜的绿油区，则由于第二区域对异方性导电胶膜的压力较小，覆晶薄膜的绿油区的异方性导电胶膜的导电粒子就不会压破绿油区，从而能够避免伸至绿油区的显示面板引线因绿油区破损绝缘失效而搭接至不匹配的覆晶薄膜引线上导致的画面显示异常。
基本信息
专利标题 ：
用于对覆晶薄膜进行本压处理的压头及邦定机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020331053.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-17
授权号 ：
CN212135097U
授权日 ：
2020-12-11
发明人 ：
胡庆云张朝鹏
申请人 ：
深圳市联得自动化装备股份有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区大浪街道大浪社区同富邨工业园A区3栋1-4层
代理机构 ：
广州华进联合专利商标代理有限公司
代理人 ：
虞凌霄
优先权 ：
CN202020331053.2
主分类号 ：
G02F1/13
IPC分类号 ：
G02F1/13 H05K3/32
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的，例如单位液晶显示单元
法律状态
2020-12-11 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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