一种真空蚀刻装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种真空蚀刻装置，包括底座，所述底座的上端外表面设置有蚀刻箱，所述蚀刻箱的上端外表面设置有蚀刻液存储罐，所述蚀刻液存储罐的下端设置有蚀刻机构，所述蚀刻机构的下端设置有固定结构，所述固定结构包括放置板以及设置于放置板表面的夹紧板，所述蚀刻箱的前端外表面设置有密封门，所述密封门的外表面设置有把手，所述把手的一侧设置有观察窗，所述底座的内侧设置有收集结构。本实用新型所述的一种真空蚀刻装置，通过设置有固定结构，不仅能够固定不同尺寸的电路板，还能够防止电路板在固定过程中变形，通过设置有收集结构，可以对蚀刻废液进行回收，方便从废液中提取金属，不仅能够节约资源，还能避免造成环境污染。
基本信息
专利标题 ：
一种真空蚀刻装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020416088.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-27
授权号 ：
CN211630518U
授权日 ：
2020-10-02
发明人 ：
谢月
申请人 ：
南亚电路板（昆山）有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市昆山经济技术开发区长江南路201号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202020416088.6
主分类号 ：
H05K3/06
IPC分类号 ：
H05K3/06
法律状态
2020-10-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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