蒸镀膜料余量监测装置
授权
摘要
本公开属于半导体技术领域，其提供了一种蒸镀膜料余量监测装置，具体包括：光发射部件、光电转换部件和显示部件；所述显示部件与所述光电转换部件连接；所述光发射部件用于向所述装盛件中发射入射光线；所述光电转换部件用于接收所述装盛件中的反射光线并生成对应的蒸镀膜料余量信号；所述显示部件用于对所述蒸镀膜料余量信号进行显示。本公开实施例的蒸镀膜料余量监测装置实现了通过外部的显示部件实时的监测内部的蒸镀膜料的余量的多少，有效避免成膜异常的情况发生，且结构简单易于实现，具有较高的适用性。
基本信息
专利标题 ：
蒸镀膜料余量监测装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020705908.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-30
授权号 ：
CN212175027U
授权日 ：
2020-12-18
发明人 ：
王沛占朱德盼伍凯义杨然翔张嘉修
申请人 ：
重庆康佳光电技术研究院有限公司
申请人地址 ：
重庆市璧山区璧泉街道钨山路69号(1号厂房)
代理机构 ：
北京康信知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
江舟
优先权 ：
CN202020705908.3
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/54
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-12-18 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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