抗辐照碳纳米管晶体管及集成电路系统
授权
摘要
本公开提供了一种抗辐照碳纳米管晶体管，包括：抗辐照衬底；碳纳米管粘附层，碳纳米管粘附层形成在抗辐照衬底上；碳纳米管层，碳纳米管层形成在碳纳米管粘附层上，碳纳米管层作为沟道；以及栅介质，栅介质为至少在碳纳米管层的一部分上形成的聚合物离子液体凝胶。本公开还提供了一种集成电路系统。
基本信息
专利标题 ：
抗辐照碳纳米管晶体管及集成电路系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020999290.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-03
授权号 ：
CN212303703U
授权日 ：
2021-01-05
发明人 ：
朱马光肖洪山张志勇赵建文彭练矛
申请人 ：
北京元芯碳基集成电路研究院;北京大学;北京华碳元芯电子科技有限责任公司
申请人地址 ：
北京市海淀区杏石口路80号
代理机构 ：
北京庚致知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
韩德凯
优先权 ：
CN202020999290.6
主分类号 ：
H01L51/05
IPC分类号 ：
H01L51/05 H01L23/552 H01L51/10 H01L51/40
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法律状态
2021-01-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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