一种溅射镀膜生产系统
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摘要
为了解决如何稳定控制镀膜设备的真空度的问题，本实用新型提出一种溅射镀膜生产系统，第一预真空室201和第三过渡室207先用滑阀泵209进行抽真空处理，随后启动第四罗茨泵208进行更高真空度的抽取，基片架随着工作轨道218依次通过第一预真空室201、第二预真空室202、第一镀膜室203、第一过渡室204、第二镀膜室205、第二过渡室206和第三过渡室207，进行基片的镀膜，随后从卸料口219出来进入卸料区4后随着传输轨道3进入进料区1进行上料后进入工作区20的进料口220进行下一次的镀膜，溅射镀膜生产系统的结构简单，自动化程度高，保证了镀膜设备的真空度的的稳定性。
基本信息
专利标题 ：
一种溅射镀膜生产系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021009086.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-03
授权号 ：
CN212713743U
授权日 ：
2021-03-16
发明人 ：
韩阳贾祥文李均平曹丽娟邹健
申请人 ：
苏州锐世讯光学科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市相城区黄桥街道大庄村大民路(东兴模具有限公司南侧200米)
代理机构 ：
苏州彰尚知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
赵成磊
优先权 ：
CN202021009086.1
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56 C23C14/35
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2021-03-16 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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