一种多工艺腔体共用真空泵组
授权
摘要
一种多工艺腔体共用真空泵组，包括管道、真空泵以及阀门；所述真空泵包括真空泵一和真空泵二；一个真空泵一对应至少一个工艺腔体；一个真空泵二对应至少一个工艺腔体；所述管道设置于工艺腔体与真空泵之间；所述阀门设置于管道上；本实用新型通过设置共用的真空泵一和/或共用的真空泵二，随着工艺过程中压力的变化，切换两个泵，在保证工艺腔体内的压力达到工艺标准的前提下尽可能减少设备成本，减小设备体积。
基本信息
专利标题 ：
一种多工艺腔体共用真空泵组
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021081002.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-12
授权号 ：
CN212392214U
授权日 ：
2021-01-22
发明人 ：
林佳继庞爱锁刘群朱太荣张武
申请人 ：
深圳市拉普拉斯能源技术有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市坪山区坑梓街道吉康路1号
代理机构 ：
杭州天昊专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
董世博
优先权 ：
CN202021081002.5
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67 H01L31/18
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2021-01-22 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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