一种半导体生产制造用光刻机
专利申请权、专利权的转移
摘要
本实用新型涉及半导体生产技术领域,且公开了一种半导体生产制造用光刻机,包括基座,所述基座中部的顶面固定连接有支撑架,所述支撑架的顶部固定安装有光刻机本体,所述光刻机本体底部一侧的表面设置有光源定位机构,所述光源定位机构的中部固定安装有承接架。本实用新型通过将九个定位顶杆在防脱压板的底面让位结构与套装压板的顶面让位结构之间所形成的调节空间进行距离移动,可在不拆卸承接架的情况下完成对不同晶圆片的定位调节运动,保证晶圆片与光刻机本体内部光源的中心始终在同一直线上,保障光刻质量,进而解决现有的定位装置对于不同直径的晶圆进行定位时需要拆卸更换装置的定位板结构,操作麻烦的问题。
基本信息
专利标题 :
一种半导体生产制造用光刻机
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021085467.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-06-12
授权号 :
CN212135141U
授权日 :
2020-12-11
发明人 :
不公告发明人
申请人 :
肇庆悦能科技有限公司
申请人地址 :
广东省肇庆市封开县江口街道封州二路长征新区拆迁安置区首层
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202021085467.8
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-13 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移IPC(主分类) : G03F 7/20
登记生效日 : 20220505
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 肇庆悦能科技有限公司
变更后权利人 : 浙江典伦科技有限责任公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 526500 广东省肇庆市封开县江口街道封州二路长征新区拆迁安置区首层
变更后权利人 : 311100 浙江省杭州市余杭区仓前街道文一西路1218号7幢101室-27
登记生效日 : 20220505
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 肇庆悦能科技有限公司
变更后权利人 : 浙江典伦科技有限责任公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 526500 广东省肇庆市封开县江口街道封州二路长征新区拆迁安置区首层
变更后权利人 : 311100 浙江省杭州市余杭区仓前街道文一西路1218号7幢101室-27
2020-12-11 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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