一种半导体生产制造用光刻机
授权
摘要

本实用新型属于光刻机技术领域,尤其为一种半导体生产制造用光刻机,针对现有的光刻机大多不便于对其进行安装与拆卸的工作,从而导致光刻机的更换或维修工作耗时较久的问题,现提出如下方案,其包括光刻机本体、支撑柱与底座,所述支撑柱的底部固定安装在底座的顶部,光刻机本体的底部固定安装有矩形柱,所述矩形柱的外侧内壁上活动抵接有插板,插板的外侧与支撑柱的内壁滑动连接,插板的一侧延伸至支撑柱的外侧并固定安装有连接板,连接板的底部内壁上固定安装有第一弹簧。本实用新型结构设计合理,通过插板与矩形柱的卡接配合以及插杆与支撑柱的卡接,方便对光刻机本体进行快速的安装与拆卸工作,可靠性高。

基本信息
专利标题 :
一种半导体生产制造用光刻机
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122070924.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-08-31
授权号 :
CN216160974U
授权日 :
2022-04-01
发明人 :
杨洁
申请人 :
杨洁
申请人地址 :
四川省成都市天府新区华阳街道协和下街230号1层附109号
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202122070924.7
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-01 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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