一种旋转多边形靶材
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摘要
一种旋转多边形靶材，包含若干段多边形靶材、进水筒和定位套，其特征在于，单段多边形靶材包括靶材、固定筒、固定圈和固定夹，所述固定筒包含固定筒主体和固定圈；所述固定圈设置在固定筒两端；所述靶材由至少2个等腰梯形靶材基体组成；所述靶材设置在固定筒外表面，所述靶材与所述固定圈利用固定夹嵌入紧密绑定组成1段多边形靶材；不少于所述2段多边形靶材依次布置于进水筒表面，所述单段多边形靶材与所述进水筒之间布置有定位套。本实用新型通过将若干等腰梯形靶材组装成旋转多边形靶材，大大提高靶材应用空间，并且提高了靶材的利用率，同时具有工艺简单、生产成本低、连接紧密、导热效果好的优点。
基本信息
专利标题 ：
一种旋转多边形靶材
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021329744.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-09
授权号 ：
CN213951331U
授权日 ：
2021-08-13
发明人 ：
刘阳刘彬
申请人 ：
北京实力源科技开发有限责任公司
申请人地址 ：
北京市丰台区科技园区3A地块工商联科技大厦22B04[园区]
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202021329744.5
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2021-08-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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