一种PVD双面镀膜载板
授权
摘要
本实用新型公开了一种新型PVD双面镀膜载板，包括框架和子载板，所述子载板固定在框架上，所述框架上设有用来装螺母的螺纹孔，所述子载板具有四边支撑凸台，支撑边缘位置采用阶梯斜边式设计。本实用新型应用于高速连续物理气相沉积设备，可以保证产能优势，达到双面高速连续镀膜效果，传动运行高效稳定，且有效地降低了PVD生产过程中产生的电池片破片、掉片及崩边等不良率；可以解决双面镀膜边际效应，解决镀膜色差问题；可以解决双面镀膜边缘绕镀现象，提升暗电流良率，对电池片综合良率改善明显；可以解决保养易腐蚀问题，提高载板使用可靠性。
基本信息
专利标题 ：
一种PVD双面镀膜载板
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021487499.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-24
授权号 ：
CN213895984U
授权日 ：
2021-08-06
发明人 ：
张建德张延任刘义军徐尔强
申请人 ：
福建钧石能源有限公司
申请人地址 ：
福建省泉州市鲤城区南环路高新技术园区
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202021487499.0
主分类号 ：
C23C14/50
IPC分类号 ：
C23C14/50 C23C14/35 C23C14/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2021-08-06 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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