一种板式PECVD镀膜载板
授权
摘要
本实用新型涉及一种板式PECVD镀膜载板，包括载板，所述载板包括框架和支撑板，所述框架上开设有若干用于承载支撑板的承载槽；所述支撑板与框架配合连接；在所述支撑板的内侧边缘设有支撑硅片的承载面。本实用新型可灵活更换不同尺寸支撑板对相应尺寸硅片镀膜，节省了不同尺寸载板采购成本和维护成本；承载槽内设置加强筋，抗形变能力强，从而减少硅片不良率。
基本信息
专利标题 ：
一种板式PECVD镀膜载板
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021337336.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-09
授权号 ：
CN212476878U
授权日 ：
2021-02-05
发明人 ：
钱孟蒲天尹鸣
申请人 ：
梅耶博格光电设备（上海）有限公司
申请人地址 ：
上海市闵行区古北路1699号1304、1305-1室
代理机构 ：
南京中高专利代理有限公司
代理人 ：
袁兴隆
优先权 ：
CN202021337336.4
主分类号 ：
C23C16/458
IPC分类号 ：
C23C16/458 H01J37/32
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/458
在反应室中支承基体的方法
法律状态
2021-02-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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