一种具有旋转挂架机构的真空镀膜机
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摘要
本实用新型公开了一种具有旋转挂架机构的真空镀膜机，包括镀膜腔、左膜腔、右膜腔和支架装置，所述镀膜腔为半圆柱形，所述镀膜腔中心开设有正面中心开设有半圆柱形凹槽，所述镀膜腔一侧通过铰链转动连接有左膜腔，所述镀膜腔另一侧通过铰链转动连接有右膜腔，所述左膜腔和所述右膜腔内部中心开设有半圆柱形凹槽，所述左膜腔和所述右膜腔内部中心凹槽与所述镀膜腔内部中心凹槽相匹配，且组合成圆柱体，所述镀膜腔底端表面固定焊接有底座；该装置在使用时，通过设置有支架体，旋转过程中，由于离心力的作用会向两侧进行拉伸，保持一个扩张状态，提高靶材之间的间隔，提高镀膜速率，提高镀膜的品质，不会使得靶材相互拥挤，影响镀膜效果。
基本信息
专利标题 ：
一种具有旋转挂架机构的真空镀膜机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021532962.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-29
授权号 ：
CN213232466U
授权日 ：
2021-05-18
发明人 ：
李龙辉
申请人 ：
佛山市百思特电子材料有限公司
申请人地址 ：
广东省佛山市顺德区大良街道办事处五沙社区居民委员会顺园西路2号之二
代理机构 ：
上海智力专利商标事务所(普通合伙)
代理人 ：
周涛
优先权 ：
CN202021532962.9
主分类号 ：
C23C14/22
IPC分类号 ：
C23C14/22
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
法律状态
2021-05-18 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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