一种真空镀膜辊冷镀装置
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摘要
本实用新型公开一种真空镀膜辊冷镀装置，包括箱体和机芯，机芯通过箱体的侧边开口安装在箱体中，机芯包括放料辊、导辊、镀膜辊、承载舟、蒸发源、展平辊和收料辊；放料辊和收料辊安装在机芯内部靠上位置，两个导辊分别安装在放料辊和收料辊下，镀膜辊和展平辊分别设置在一个的导辊下，并且镀膜辊设置在放料辊下；镀膜辊的最下端与展平辊的最下端平齐在一水平面上；承载舟与蒸发源安装在镀膜辊和展平辊中线上且位于机芯内部最底端；镀膜辊还包括注入口、安全阀、密实盖和镀膜辊空腔，安全阀套设在注入口上，密实盖套设在安全阀上。本案的镀膜辊可提供温度更低、温度波动更稳定的镀膜条件，且本案的箱体可快速抽真空，并维持良好的真空环境。
基本信息
专利标题 ：
一种真空镀膜辊冷镀装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021864865.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-31
授权号 ：
CN212834015U
授权日 ：
2021-03-30
发明人 ：
李晓哲丁磊闫森闯
申请人 ：
厦门玉通光电有限公司
申请人地址 ：
福建省厦门市海沧区坪埕北路63号之一
代理机构 ：
厦门市天富勤知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
唐绍烈
优先权 ：
CN202021864865.X
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56 C23C14/24
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2021-03-30 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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