一种便于联结的聚对二甲苯卧式真空沉积系统结构
授权
摘要
本实用新型公开了一种便于联结的聚对二甲苯卧式真空沉积系统结构，包括真空腔室、底座和主机，所述真空腔室水平布置于底座的顶端，所述主机的底部安装有底板。本实用新型通过将真空腔室安装布置于安装板的上方，并利用电动伸缩杆二驱动底座与真空腔室沿固定轴进行摆动，利用电动伸缩杆一带动安装板与真空腔室整体向远离主机的一侧进行平移，平移后利用电动伸缩杆二带动底座与真空腔室进行摇摆脱离主机，这样不需要使真空腔室移动很长的间距也能实现真空腔室与主机的大范围脱离，且真空腔室沿固定轴进行摆动后的主机与真空腔室端面垂直，更便于操作人员在同一部位同时对主机与真空腔室进行清理，使用效果更好。
基本信息
专利标题 ：
一种便于联结的聚对二甲苯卧式真空沉积系统结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022013943.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-15
授权号 ：
CN213203191U
授权日 ：
2021-05-14
发明人 ：
杨宏武李洪王军
申请人 ：
吉世科精密涂装（深圳）有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区福海街道重庆路安达工业厂区2栋5楼
代理机构 ：
深圳市千纳专利代理有限公司
代理人 ：
胡坚
优先权 ：
CN202022013943.1
主分类号 ：
C23C16/44
IPC分类号 ：
C23C16/44
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
法律状态
2021-05-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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