一种聚对二甲苯真空沉积使用的腔室滚筒
授权
摘要
本实用新型公开了一种聚对二甲苯真空沉积使用的腔室滚筒，包括真空腔室、滚筒、出气管和进气管，所述真空腔室内部的一端设有隔板一，所述真空腔室内部的另一端设有隔板二，所述隔板二与隔板一之间的真空腔室内部设有沉积室，所述隔板一远离沉积室一侧的真空腔室内部设有进气室。本实用新型通过在开口部位可拆卸安装有密封侧板，并在密封侧板与真空腔室的内部分别设有相对齐布置的滑槽二与滑槽一，在使用的过程中便于将密封侧板拆卸后取出滚筒进行清理更换，并可在清理更换后由开口部位重新将滚筒上的滑板对准滑槽一后放置于沉积室内部并重新安装固定密封侧板，利用密封侧板保持沉积室的密闭性，提高滚筒转动的使用效果。
基本信息
专利标题 ：
一种聚对二甲苯真空沉积使用的腔室滚筒
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022041949.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-17
授权号 ：
CN213435400U
授权日 ：
2021-06-15
发明人 ：
杨宏武李洪王军
申请人 ：
吉世科精密涂装（深圳）有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区福海街道重庆路安达工业厂区2栋5楼
代理机构 ：
深圳市千纳专利代理有限公司
代理人 ：
胡坚
优先权 ：
CN202022041949.X
主分类号 ：
B05C9/02
IPC分类号 ：
B05C9/02
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B05
一般喷射或雾化；对表面涂覆流体的一般方法
B05C
一般对表面涂布流体的装置
B05C9/00
把液体或其他流体涂于表面的装置或设备，所采用的方法未包含在B05C1/00至B05C7/00组，或表面涂布液体或其他流体的方法不是重要的
B05C9/02
对表面涂布液体或其他流体采用B05C1/00至B05C7/00中未包含的一个方法，不论是否还使用其他的方法
法律状态
2021-06-15 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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