一种真空锁过渡腔室

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

摘要

本发明涉及微电子技术领域，具体涉及半导体晶片的传输与加工的真空锁过渡腔室。本发明公开的一种真空锁过渡腔室，包括：包括腔室、腔室上的充气系统和抽气系统、腔室端部的阀门，所述腔室内还设有晶片支撑装置、底座，其中，支撑装置底部与底座连接。本发明与已有技术相比，大大提高了传输系统的产出率；同时保证了真空锁过渡腔室对于不同晶片尺寸、不同晶片装载高度、不同机械手前端结构具有良好的可调节性、灵活性和兼容性；而且，结构简单，对于真空锁过渡腔室内的洁净程度能做到很好的控制。

基本信息

专利标题：

一种真空锁过渡腔室

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1937197A

申请号：

CN200510126399.9

公开（公告）日：

2007-03-28

申请日：

2005-12-08

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

张之山

申请人：

北京圆合电子技术有限责任公司

申请人地址：

100016北京市朝阳区酒仙桥东路1号

代理机构：

北京路浩知识产权代理有限公司

代理人：

向华

优先权：

CN200510126399.9

主分类号：

H01L21/677

IPC分类号：

H01L21/677

IPC结构图谱

H部——电学

H01

基本电气元件

H01L

半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件

H01L21/00

专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备

H01L21/67

专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置

H01L21/677

用于传送的，例如在不同的工作站之间

法律状态

2018-08-21 ：

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

IPC(主分类) : H01L 21/677
变更事项 : 专利权人
变更前 : 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
变更后 : 北京北方华创微电子装备有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 100015 北京市朝阳区酒仙桥东路1号
变更后 : 100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号

2011-04-20 ：

专利申请权、专利权的转移

专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101081115634
IPC(主分类) : H01L 21/677
专利号 : ZL2005101263999
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 北京圆合电子技术有限责任公司
变更后权利人 : 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号
变更后权利人 : 100015 北京市朝阳区酒仙桥东路1号
登记生效日 : 20110311

2008-05-14 ：

授权

2007-05-23 ：

实质审查的生效

2007-03-28 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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