本发明公开了一种真空处理装置，尤其是涉及一种用于对例如液晶显示(LCD)板的玻璃、半导体的晶片等的基板进行蚀刻处理或者沉积处理的装置。还公开了一种真空处理装置的腔室，其包括：一个具有多边形外形的腔室主体；至少一个与腔室主体的一个侧壁可拆卸地连接的侧壁单元，在平行于腔室主体的上表面方向上具有一定曲率的水平部分；一个上部面板单元和一个下部面板单元，上部面板单元和下部面板单元分别地与腔室主体和侧壁单元的上部以及下部可拆卸地连接，以覆盖腔室主体和侧壁单元上部和下部。