具有可调节靶的物理气相沉积腔室
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明涉及具有可旋转衬底基座和至少一个可移动倾斜靶的物理气相沉积(PVD)腔室。本发明的实施方式有助于高度均匀性的薄膜沉积。
基本信息
专利标题 ：
具有可调节靶的物理气相沉积腔室
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101061250A
申请号 ：
CN200580039753.2
公开（公告）日 ：
2007-10-24
申请日 ：
2005-11-07
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
伊利亚·拉维斯基麦克尔·罗森斯特恩吉田吾一候共·王振东·刘梦其·叶
申请人 ：
应用材料股份有限公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
北京律诚同业知识产权代理有限公司
代理人 ：
徐金国
优先权 ：
CN200580039753.2
主分类号 ：
C23C14/32
IPC分类号 ：
C23C14/32
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/32
爆炸法；蒸发及随后的气化物电离法
法律状态
2010-08-18 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101004078842
IPC(主分类) : C23C 14/32
专利申请号 : 2005800397532
公开日 : 20071024
号牌文件序号 : 101004078842
IPC(主分类) : C23C 14/32
专利申请号 : 2005800397532
公开日 : 20071024
2008-01-02 ：
实质审查的生效
2007-10-24 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
