一种半导体生产用温控设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种半导体生产用温控设备,涉及半导体生产技术领域,包括工作室,所述工作室正面设置有开关门,所述工作室内上下滑动设置有工作板,所述工作板顶面一侧顶面安装有温度感应器,所述工作室内顶部固定设置有密封箱一,所述密封箱一内设置有冷源机构,所述密封箱一外侧安装有进气管,所述密封箱一内底面固定设置有安装管,所述安装管内安装有抽风机一,所述安装管底面密封设置有风管一,所述风管一贯穿所述密封箱一,所述工作室内底部固定设置有加热机构,本实用新型解决了目前的半导体生产用温控设备只采用制冷系统对负载设备降温,导致制冷系统的负载量较大,不利于节能的问题。
基本信息
专利标题 :
一种半导体生产用温控设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022039235.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-09-17
授权号 :
CN212906025U
授权日 :
2021-04-06
发明人 :
陈新科
申请人 :
杭州途石科技有限公司
申请人地址 :
浙江省杭州市余杭区运河街道唐公村3幢105室
代理机构 :
上海宏京知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
李敏
优先权 :
CN202022039235.5
主分类号 :
G05D23/30
IPC分类号 :
G05D23/30
IPC结构图谱
G
G部——物理
G05
控制;调节
G05D
非电变量的控制或调节系统
G05D23/00
温度的控制
G05D23/19
以使用电装置为特征的
G05D23/30
具有影响传感元件的辅助加热装置的自动控制器,例如,预测温度变化的
法律状态
2021-04-06 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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