一种硅片生产的链式碱抛水上漂技术装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种硅片生产的链式碱抛水上漂技术装置，包括反应槽，所述反应槽的内部转动安装有传动机构，所述反应槽的顶部分别固定连接有水膜机构和第一感应器，所述水膜机构的内部设置有温控单元，所述第一感应器位于水膜机构的一侧，所述反应槽的内壁固定安装有第二感应器，所述第二感应器位于传动机构的上端，所述反应槽的内部设置有建浴机构，本实用新型通过传动装置对硅片的多段水膜附着，利用反应槽内低液位从而产生药水张力的作用，使硅片上部的磷硅玻璃在生产中不会被破坏，解决了现如今刻蚀工艺效果不佳且成本昂贵等问题，且降低了生产成本，提高了良品率。
基本信息
专利标题 ：
一种硅片生产的链式碱抛水上漂技术装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022109664.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-23
授权号 ：
CN212810320U
授权日 ：
2021-03-26
发明人 ：
孙刘竹李冰
申请人 ：
苏州库睿斯自动化设备有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市吴江区亨通路399号
代理机构 ：
上海思牛达专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
雍常明
优先权 ：
CN202022109664.5
主分类号 ：
H01L31/18
IPC分类号 ：
H01L31/18
法律状态
2021-03-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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