一种移动弧源电弧离子沉积设备
授权
摘要
本实用新型涉及电弧离子沉积技术领域，尤其是涉及一种移动弧源电弧离子沉积设备。移动弧源电弧离子沉积设备包括真空室、移动平台和弧源；所述移动平台设置在真空室内，所述弧源设置在移动平台上。通过将弧源设置在移动平台上，能够实现弧源的移动，通过一个弧源能够实现工件不同位置的离子沉积，相对于现有多个弧源的方案，减少了弧源的使用，降低了生成成本。
基本信息
专利标题 ：
一种移动弧源电弧离子沉积设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022356055.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-21
授权号 ：
CN213680867U
授权日 ：
2021-07-13
发明人 ：
富之柢王俊虎王娜贾中华
申请人 ：
富之柢
申请人地址 ：
北京市丰台区东高地72栋乙门18号
代理机构 ：
北京八月瓜知识产权代理有限公司
代理人 ：
白鹤
优先权 ：
CN202022356055.X
主分类号 ：
C23C14/32
IPC分类号 ：
C23C14/32
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/32
爆炸法；蒸发及随后的气化物电离法
法律状态
2021-07-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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