膜、膜的制造方法、覆金属层叠体和被覆金属导体
公开
摘要
本发明提供耐热性优异、不易产生翘曲且粘接力高的膜及其制造方法、以及使用该膜形成的覆金属层叠体和被覆金属导体。本发明的膜具有芳族性聚酰亚胺基膜、以及分别设置在所述基膜的两面上的包含含有基于四氟乙烯的单元和基于全氟(烷基乙烯基醚)的单元的聚合物和芳族性聚合物的层。
基本信息
专利标题 ：
膜、膜的制造方法、覆金属层叠体和被覆金属导体
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114302908A
申请号 ：
CN202080060230.0
公开（公告）日 ：
2022-04-08
申请日 ：
2020-08-24
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
笠井涉细田朋也光永敦美寺田达也结城创太
申请人 ：
AGC株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
上海专利商标事务所有限公司
代理人 ：
张佳鑫
优先权 ：
CN202080060230.0
主分类号 ：
C08J7/04
IPC分类号 ：
C08J7/04 C09D127/18 C09D179/08 B32B15/00 B32B15/082 B32B15/088 B32B27/30 B32B27/34 C08L79/08
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08J
加工；配料的一般工艺过程；不包括在C08B，C08C，C08F，C08G或C08H小类中的后处理
C08J7/00
高分子物质成形制品的化学处理或涂层
C08J7/04
涂层
法律状态
2022-04-08 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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