负型感光性树脂组合物、感光性抗蚀剂薄膜、图案形成方法、固...
实质审查的生效
摘要
本发明采用含有含环氧基树脂与金属氧化物与阳离子聚合引发剂、利用使用了含有有机溶剂的显影液的显影形成负型图案的负型感光性树脂组合物或者感光性抗蚀剂薄膜作为用于形成中空结构的感光性材料。使用上述负型感光性树脂组合物而在硅晶圆上形成的膜厚20μm的感光性树脂膜的马氏硬度小于235[N/mm2]，并且将该感光性树脂膜固化而得的固化膜在以频率1.0Hz进行粘弹性测量的情况下的温度175℃时的拉伸弹性模量(E*)为2.1[GPa]以上。
基本信息
专利标题 ：
负型感光性树脂组合物、感光性抗蚀剂薄膜、图案形成方法、固化膜及制造方法及辊体
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114503030A
申请号 ：
CN202080069169.6
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2020-10-05
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
中村亮辅近藤崇弘武内弘明今井洋文
申请人 ：
东京应化工业株式会社
申请人地址 ：
日本国神奈川县
代理机构 ：
上海立群专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
陈亦欧
优先权 ：
CN202080069169.6
主分类号 ：
G03F7/038
IPC分类号 ：
G03F7/038 G03F7/004 G03F7/20 G03F7/32 G03F7/38
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/038
高分子化合物被制备成不溶解的或非均匀可湿的
法律状态
2022-05-31 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/038
申请日 : 20201005
申请日 : 20201005
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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