用于产生层堆叠物的方法和用于制造图案化层堆叠物的方法
公开
摘要
提供了一种制造图案化层堆叠物的方法。所述方法包括沉积层堆叠物。沉积层堆叠物包括：在包括惰性气体和氢的处理气体气氛中在基板上沉积第一透明导电氧化物层；在所述第一透明导电氧化物层上沉积金属层；以及在所述金属层上沉积第二透明导电氧化物层。所述方法进一步包括一步湿法蚀刻所述层堆叠物以制造图案化层堆叠物。
基本信息
专利标题 ：
用于产生层堆叠物的方法和用于制造图案化层堆叠物的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114630920A
申请号 ：
CN202080076552.4
公开（公告）日 ：
2022-06-14
申请日 ：
2020-05-25
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
马库斯·本德于尔根·格里尔迈尔黄秀玉
申请人 ：
应用材料公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
北京律诚同业知识产权代理有限公司
代理人 ：
徐金国
优先权 ：
CN202080076552.4
主分类号 ：
C23C14/08
IPC分类号 ：
C23C14/08 C23C14/14 C23C14/34 H01L29/49 H01L29/786
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/06
以镀层材料为特征的
C23C14/08
氧化物
法律状态
2022-06-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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