质量分析装置
公开
摘要
本发明所涉及的质量分析装置抑制在离子源中发生的充电，减轻装置的维护作业的负担。本发明的质量分析装置的一方案是具备将试样气体所包含的成分离子化的离子源的质量分析装置，离子源(3)具备：离子化室(30),具有离子射出口(301)，在其内部形成有与外部大致分隔的空间；反射电极(31)，设置于离子化室内，用于形成将在该离子化室生成的离子通过离子射出口向外部推出的推出电场；电压产生部(7)，对反射电极选择性地施加用于形成推出电场的第1电压、和用于形成充电消除电场的绝对值大于第1电压的正极性的第2电压。
基本信息
专利标题 ：
质量分析装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114566420A
申请号 ：
CN202110835421.6
公开（公告）日 ：
2022-05-31
申请日 ：
2021-07-23
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
上野良弘
申请人 ：
株式会社岛津制作所
申请人地址 ：
日本国京都府
代理机构 ：
上海立群专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
杨楷
优先权 ：
CN202110835421.6
主分类号 ：
H01J49/14
IPC分类号 ：
H01J49/14 G01N30/02 G01N30/06
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J49/00
粒子分光仪或粒子分离管
H01J49/02
零部件
H01J49/10
离子源；离子枪
H01J49/14
用粒子轰击的，如电离箱
法律状态
2022-05-31 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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