质量分析装置和质量分析方法
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摘要

本发明的一个方面所涉及的质量分析装置(200)包括试样台(1)、激光照射部(201)和检测器(203),试样台(1)以如下方式构成:包括载置试样(10)并且设置有从一个面(21a)贯通至另一个面(21b)的多个贯通孔(S)的基板(21)和至少覆盖在一个面(21a)上未设置贯通孔(S)的部分的导电层(23)的试样支承体(2)以另一个面(21b)与试样(10)相对的方式载置,激光照射部(201)以向一个面(21a)上的成像对象区域(R1)照射激光(L)的方式控制激光(L)的照射,检测器(203)在维持成像对象区域(R1)上的试样(10)的位置关系的状态下对通过激光(L)的照射而离子化的试样(10)进行检测。

基本信息
专利标题 :
质量分析装置和质量分析方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN110383056A
申请号 :
CN201880016091.4
公开(公告)日 :
2019-10-25
申请日 :
2018-03-01
授权号 :
CN110383056B
授权日 :
2022-04-05
发明人 :
内藤康秀小谷政弘大村孝幸
申请人 :
浜松光子学株式会社
申请人地址 :
日本静冈县
代理机构 :
北京尚诚知识产权代理有限公司
代理人 :
杨琦
优先权 :
CN201880016091.4
主分类号 :
G01N27/62
IPC分类号 :
G01N27/62  G01N27/64  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N27/62
通过测试气体的电离,例如气溶胶;通过测试放电,例如阴极发射
法律状态
2022-04-05 :
授权
2019-11-19 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 27/62
申请日 : 20180301
2019-10-25 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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