腔室状况的诊断方法
公开
摘要
本发明提供一种腔室状况的诊断方法，是用于诊断腔室的状况的技术。一种腔室状况的诊断方法，用于诊断对产品基板进行处理的基板处理装置的腔室的状况，所述腔室状况的诊断方法包括以下工序：清洁所述腔室的内部；在所述腔室的内部生成氦气或者在氦气中混合不包含氩气的一种以上的非活性气体所得到的气体的等离子体；测定所述腔室的内部的氟的发光强度；以及基于所述发光强度来诊断所述腔室的状况。
基本信息
专利标题 ：
腔室状况的诊断方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114582695A
申请号 ：
CN202111392699.7
公开（公告）日 ：
2022-06-03
申请日 ：
2021-11-23
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
桥本佳弘大谷竜二
申请人 ：
东京毅力科创株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
刘新宇
优先权 ：
CN202111392699.7
主分类号 ：
H01J37/32
IPC分类号 ：
H01J37/32
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/32
充气放电管
法律状态
2022-06-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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