一种热等离子体还原氟化物的装置及方法
公开
摘要
本发明属于热等离子体应用技术领域，具体公开了一种热等离子还原氟化物的装置及方法，该装置包括：直流等离子体炬、还原反应室、反应腔室、反应室支架和收集罐，反应腔室的下部固定在反应室支架上，反应腔室的底部密封连接有收集罐，还原反应室位于反应腔室的内部，还原反应室与反应腔室密封连接，还原反应室顶部固定连接直流电弧等离子体炬。本发明具有生产效率高、工业流程短等特点，属于一步快速还原法，可解决现有氟化物处理方式的中间产物对环境进行二次污染等问题，降低了处理成本，具备工业化应用的潜力。
基本信息
专利标题 ：
一种热等离子体还原氟化物的装置及方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114288961A
申请号 ：
CN202111489705.0
公开（公告）日 ：
2022-04-08
申请日 ：
2021-12-08
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
陈伦江童洪辉程昌明金凡亚但敏聂军伟黄熠
申请人 ：
核工业西南物理研究院
申请人地址 ：
四川省成都市双流西南航空港黄荆路5号
代理机构 ：
核工业专利中心
代理人 ：
陈丽丽
优先权 ：
CN202111489705.0
主分类号 ：
B01J19/08
IPC分类号 ：
B01J19/08 B01J19/14
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01J
化学或物理方法，例如，催化作用或胶体化学；其有关设备
B01J19/00
化学的，物理的或物理—化学的一般方法；及其有关设备
B01J19/08
利用直接应用电能，波能或粒子辐射的方法；其所用设备
法律状态
2022-04-08 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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