电源组件、电源控制方法和溅射设备
实质审查的生效
摘要
本申请公开一种本申请实施例的目的是提供一种电源组件、电源控制方法和溅射设备，电源组件包括第一电源、第二电源、拨码开关和电流测量件，所述第一电源和所述第二电源并联设置，所述第一电源配置为与控制主机通信连接，所述第二电源通过所述拨码开关与所述第一电源主从连接；所述第一电源和所述第二电源的正极接地设置，所述第一电源和所述第二电源的负极均配置为与安装于溅射设备的腔室的靶材电性连接；所述电流测量件配置为与所述靶材电性连接，且所述电流测量件与所述控制主机通信连接，以传输所述靶材的实际电流于所述控制主机。上述电源组件可以及时发现作为从电源的电源失效的情况。
基本信息
专利标题 ：
电源组件、电源控制方法和溅射设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114277341A
申请号 ：
CN202111601804.3
公开（公告）日 ：
2022-04-05
申请日 ：
2021-12-24
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
于磊杰
申请人 ：
北京北方华创微电子装备有限公司
申请人地址 ：
北京市大兴区经济技术开发区文昌大道8号
代理机构 ：
北京国昊天诚知识产权代理有限公司
代理人 ：
周永强
优先权 ：
CN202111601804.3
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34 C23C14/54 C23C14/52 H02J9/06
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2022-04-22 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/34
申请日 : 20211224
申请日 : 20211224
2022-04-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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