一种双折射晶体及其制备方法
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种双折射晶体及其制备方法，该双折射晶体的化学式为[C(NH2)3]Sb(C2O4)F2(H2O)或RbSb(C2O4)F2(H2O)，其中[C(NH2)3]Sb(C2O4)F2(H2O)可以通过低共熔溶剂、溶剂挥发或水热反应制备，RbSb(C2O4)F2(H2O)可以通过水热反应制备。本发明制备的双折射晶体在546nm处的双折射率为0.165～0.339，比著名的双折射材料a‑BaB2O4的双折射率更高，并且晶体无色透明，化学稳定性好，可以开拓紫外波段的线性光学应用范围。
基本信息
专利标题 ：
一种双折射晶体及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114277444A
申请号 ：
CN202111610771.9
公开（公告）日 ：
2022-04-05
申请日 ：
2021-12-27
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
黄玲张喋
申请人 ：
四川师范大学
申请人地址 ：
四川省成都市锦江区静安路5号
代理机构 ：
北京正华智诚专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
代维凡
优先权 ：
CN202111610771.9
主分类号 ：
C30B29/54
IPC分类号 ：
C30B29/54 C30B7/08 C30B7/04 C30B1/10
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长；共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层；材料的区熔精炼；具有一定结构的均匀多晶材料的制备；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理；其所用的装置
C30B29/00
以材料或形状为特征的单晶或具有一定结构的均匀多晶材料
C30B29/54
有机化合物
法律状态
2022-04-22 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C30B 29/54
申请日 : 20211227
申请日 : 20211227
2022-04-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
