一种非制冷高光谱成像芯片和高光谱成像仪
实质审查的生效
摘要

本申请公开了一种非制冷高光谱成像芯片和高光谱成像仪,包括感光芯片,感光芯片包括多个超像元,每个超像元包括多个互不相同的第一光谱像元,每个第一光谱像元包括多个使第一光谱像元的光谱响应为宽带响应的特征微结构;每个超像元输出与待测目标对应区域的光谱信息,光谱信息包括多个离散的波长,以便得到与每个波长对应的光谱图像,并得到高光谱数据立方体。本申请中特征微结构使非制冷高光谱成像芯片的光谱响应为宽带的,没有狭缝和窄带滤光片限制光谱成像系统的光通量,提升光通量和信噪比;超像元兼具光谱测量和成像作用,从而使非制冷高光谱成像芯片通过一次曝光拍摄即可得到高光谱数据立方体,解决传统光谱成像系统成像缓慢的问题。

基本信息
专利标题 :
一种非制冷高光谱成像芯片和高光谱成像仪
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114323276A
申请号 :
CN202111645213.6
公开(公告)日 :
2022-04-12
申请日 :
2021-12-29
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
李君宇王丹赖芸虞传庆王鹏甘先锋董珊陈文礼王宏臣
申请人 :
烟台睿创微纳技术股份有限公司;睿创微纳(无锡)技术有限公司
申请人地址 :
山东省烟台市烟台开发区贵阳大街11号
代理机构 :
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 :
薛晨光
优先权 :
CN202111645213.6
主分类号 :
G01J3/02
IPC分类号 :
G01J3/02  G01J3/28  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01J
红外光、可见光、紫外光的强度、速度、光谱成分,偏振、相位或脉冲特性的测量;比色法;辐射高温测定法
G01J3/00
光谱测定法;分光光度测定法;单色器;测定颜色
G01J3/02
零部件
法律状态
2022-04-29 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01J 3/02
申请日 : 20211229
2022-04-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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