本发明涉及一种红外光子晶体膜的制备方法及相应的红外光子晶体膜，具体包括以下制备步骤：1)分别计算高、低折射率材料薄膜的厚度；2)制得低折射率材料溶液；3)制得高折射率材料溶液；4)旋涂高折射率材料溶液得到高折射率材料薄膜；5)清洗高折射率材料薄膜，并且旋涂低折射率溶液得到低折射率材料薄膜；6)重复上述步骤4)、5)制得多个周期的光子晶体膜；所述低折射率材料为可溶性聚合物，所述高折射率材料为可溶性硫系化合物。该方法采用简单、快捷、廉价的旋涂工艺，避免了蒸镀、磁控溅射、气相沉积等耗时长、成本高昂、难以大面积制备等缺点，旋涂的膜厚容易控制，只通过控制溶液浓度和旋速即可改变旋速进而改变光子禁带位置。