本发明公开一种蒸发源装置、蒸镀设备及蒸镀方法，该蒸发源装置包括：坩埚，用于容纳蒸镀材料，所述坩埚设有用于输出所述蒸镀材料的多个喷口，多个所述喷口至少排列为一排；风扇部件，可转动地设置于所述坩埚的喷口处，以使所述蒸镀材料通过所述风扇部件向外喷射；加热部件，用于对所述坩埚内的蒸镀材料进行加热气化；以及多个驱动装置，分别用于驱动所述风扇部件旋转。本发明的蒸发源装置通过对风扇部件的转速控制，可对坩埚内压进行调控，从而调控蒸镀材料喷出的范围，随着风扇部件的旋转速度增加，喷射蒸镀材料的区域越集中，该区域内的材料沉积的越多，从而调整该区域的膜层厚度。