一种倒置式微波等离子化学气相沉积腔体
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摘要
本实用新型公开了一种倒置式微波等离子化学气相沉积腔体，解决现有MPCVD法金刚石生长过程中腔壁沉积物剥落和多晶炸裂造成的晶体净度降低的技术问题。本实用新型包括与微波源相连用于微波导入的连接腔室，与连接腔室相连通用于金刚石晶体生长的生长腔室，设于生长腔室内的水冷台，以及设于水冷台底面用于放置金刚石晶体的螺纹钼台；生长腔室顶部开设有用于抽真空的排气口，生长腔室底部开设有用于金刚石晶体取放的炉门，螺纹钼台下方设有等离子体。本实用新型结构简单、设计科学合理，使用方便，将沉积腔倒立设置，利用重力的作用，使腔壁沉积物自然沉降到腔体底部，避免掉落到晶体表面，以此提高晶体的净度。
基本信息
专利标题 ：
一种倒置式微波等离子化学气相沉积腔体
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122257281.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-09-17
授权号 ：
CN216149678U
授权日 ：
2022-04-01
发明人 ：
袁稳郑怡李兵
申请人 ：
成都稳正科技有限公司
申请人地址 ：
四川省成都市郫都区现代工业港数码二路2号102-6楼A区
代理机构 ：
成都春夏知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
陈春华
优先权 ：
CN202122257281.7
主分类号 ：
B01J3/06
IPC分类号 ：
B01J3/06
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01J
化学或物理方法，例如，催化作用或胶体化学；其有关设备
B01J3/00
利用低于或高于大气压力使物质发生化学或物理变化的方法；其有关设备
B01J3/06
应用超高压方法，例如，用于生成金刚石；其设备，例如塑模或挤压模
法律状态
2022-04-01 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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