薄膜方阻测量装置
授权
摘要
本实用新型公开了薄膜方阻测量装置,包括压夹探头组件,压夹探头组件包括两个压夹探头结构,两个压夹探头结构之间形成有检测空间;其中一个压夹探头结构设置为第一压夹探头、另一压夹探头结构设置为第二压夹探头,第一压夹探头设置于第二压夹探头的上方;探头驱动组件,探头驱动组件与压夹探头结构向另一压夹探头结构靠近或远离;电阻计,电阻计与压夹探头组件相连。在本薄膜方阻测量装置工作时,两个压夹探头结构的探针分别与双面金属膜的两个面进行接触,并且同时对双面金属膜的两个面的方阻进行测量,避免了以前测量双面金属膜时需要人工将双面金属膜进行翻转的过程,提高了检测的效率,并且避免了翻转过程中工作人员对双面金属膜造成损坏。
基本信息
专利标题 :
薄膜方阻测量装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122281605.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-09-18
授权号 :
CN216485246U
授权日 :
2022-05-10
发明人 :
叶长
申请人 :
松下电子部品(江门)有限公司
申请人地址 :
广东省江门市新会区会城大道18号
代理机构 :
广州嘉权专利商标事务所有限公司
代理人 :
林华龙
优先权 :
CN202122281605.0
主分类号 :
G01R27/02
IPC分类号 :
G01R27/02 G01R27/26 G01R1/04
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01R
测量电变量;测量磁变量
G01R27/00
测量电阻、电抗、阻抗或其派生特性的装置
G01R27/02
电阻、电抗、阻抗或其派生的其他两端特性,例如时间常数的实值或复值测量
法律状态
2022-05-10 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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