一种光刻机的激光器用光轴校准装置
授权
摘要
本实用新型提供一种光刻机的激光器用光轴校准装置，包括校准筒和设置在校准筒内的激光器，所述校准筒外表面呈环形等距开设有三个螺纹孔，所述螺纹孔内螺纹连接有用于调整激光器位置的调节螺杆，所述调节螺杆上套设有与螺纹孔同心布置的限位套，所述限位套一端与校准筒固定连接，所述限位套内远离螺纹孔的一侧滑动安装有压盘，所述压盘背离螺纹孔的一面开设有圆孔，所述调节螺杆贯穿圆孔，所述压盘通过连接件与调节螺杆转动连接，所述压盘与螺纹孔之间设有压缩弹簧，所述压缩弹簧套设在调节螺杆上，与现有技术相比，本实用新型具有如下的有益效果：实现利用压缩弹簧的回弹力防调节螺杆发生自传，提高光轴校准的稳定性。
基本信息
专利标题 ：
一种光刻机的激光器用光轴校准装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123158619.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-14
授权号 ：
CN216696983U
授权日 ：
2022-06-07
发明人 ：
胡德立
申请人 ：
江苏微影半导体有限公司
申请人地址 ：
江苏省盐城市经济技术开发区希望大道南路18-3号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202123158619.X
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
