曝光机温度控制装置
授权
摘要
本实用新型涉及曝光机技术领域,公开了曝光机温度控制装置,包括曝光机,所述曝光机的一侧螺纹连接有螺栓,所述螺栓的外表面螺纹连接有有固定框,所述固定框的一侧固定连接有安装箱,所述安装箱的内底壁固定连接有弹簧,所述弹簧的顶部固定连接有放置板。本实用新型具有以下优点和效果:通过设置曝光机、螺栓、固定框、安装箱、弹簧、放置板、限位块、螺纹帽、温度控制装置本体、螺纹杆、挤压片和橡胶垫,在安装固定温度控制装置时,将温度控制装置本体放置在放置板的表面上,放置板底部连接有弹簧,可以起到支撑缓冲的作用,放置板受力后弹簧向下压缩,放置板向下移动,限位块可以防止放置板移动时出现位置偏移。
基本信息
专利标题 :
曝光机温度控制装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202123358158.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-12-29
授权号 :
CN216647084U
授权日 :
2022-05-31
发明人 :
刘国宝
申请人 :
苏州市鑫达试验设备有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市吴中区临湖镇采菱路102号
代理机构 :
苏州铭浩知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
张一鸣
优先权 :
CN202123358158.0
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-31 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载